多功能EVG7300 UV納米壓印光刻系統可以支持多種相關(guān)的UV工藝:SmartNIL，晶圓級光學(xué)(WLO)和堆疊-三種功能合并在一個(gè)靈活的工具中

納米壓印支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。

EVG6200 NT以其自動(dòng)化靈活性和可靠性而著(zhù)稱(chēng)，可在最小的占位面積上提供了優(yōu)于其他品牌的掩模對準技術(shù)，并具有最高的產(chǎn)能，先進(jìn)的對準功能和優(yōu)化的總擁有成本。操作員友好型軟件，最短的掩模和工具更換時(shí)間以及高效的全球服務(wù)和支持使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。EVG6200 NT或安裝的EVG6200 NT Gen2掩模對準系統有半自動(dòng)或自動(dòng)配置，并配有集成的振動(dòng)隔離功能。

光刻機Track系統通過(guò)集成的生產(chǎn)系統和結合掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理的高度自動(dòng)化功能，完善了EVG光刻機產(chǎn)品系列。HERCULES光刻機Track系統基于模塊化平臺，將EVG已建立的光學(xué)掩模對準技術(shù)與集成的清潔，光刻膠涂層，烘烤和光刻膠顯影模塊相結合。將HERCULES平臺變成了“一站式服務(wù)”，在這里將經(jīng)過(guò)預處理的晶圓裝載到工具中，然后將結構化的經(jīng)過(guò)處理的晶圓退回。

長(cháng)達 150 毫米的自動(dòng)化全場(chǎng)紫外納米壓印解決方案，采用 EVG 專(zhuān)有的 SmartNIL 技術(shù)

EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著(zhù)稱(chēng)，在蕞小的占位面積上結合了先進(jìn)的對準功能和蕞優(yōu)化的總體擁有成本，提供了優(yōu)于其他品牌的掩模對準技術(shù)。它是光學(xué)雙面光刻的理想工具，可提供半自動(dòng)或自動(dòng)配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案，以滿(mǎn)足大批量生產(chǎn)要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件，蕞短的掩模和工具更換時(shí)間以及高效的全球服務(wù)和支持，使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。