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EVG光刻機
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研發(fā)和小規模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工。$nEVG101光刻膠勻膠機在單室設計上可以滿(mǎn)足研發(fā)工作,與EVG的自動(dòng)化系統*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓,可配置為旋涂或噴涂和顯影。
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