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產(chǎn)品分類(lèi)
Product Category?新型IQ Aligner NT具有高強度和高均勻度的曝光光學(xué)器件,新的晶圓處理硬件,可實(shí)現全局多點(diǎn)對準的200mm和300mm晶圓全覆蓋范圍以及優(yōu)化的工具軟件,從而使生產(chǎn)率提高了2倍與EVG上一代IQ Aligner相比,對準精度提高了2倍。該系統超越了晶圓凸塊和其他后端光刻應用的蕞苛刻要求,同時(shí)與競爭系統相比,擁有成本降低了30%。
EVG620 NT-掩模對準光刻機系統EVG ® 620 NT提供國家的本領(lǐng)域掩模對準技術(shù)在小化的占位面積,支持高達150毫米晶圓尺寸。
EVG610-單面、雙面光刻系統 EVG光刻機EVG®610是一款緊湊型多功能研發(fā)系統,可處理零碎片和大200 mm的晶圓。
EVG6200 NT掩模對準光刻系統 特色:EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學(xué)雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。
IQ Aligner 自動(dòng)掩模對準系統 用于自動(dòng)非接觸近距離掩模對準光刻,進(jìn)行了處理和優(yōu)化,用于晶圓片的尺寸高達200毫米。
研發(fā)和小規模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工。$nEVG101光刻膠勻膠機在單室設計上可以滿(mǎn)足研發(fā)工作,與EVG的自動(dòng)化系統*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓,可配置為旋涂或噴涂和顯影。
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